Лепешки 100g гафния испарения ISO9001 2*5mm

Упаковка лепешек испарения гафния 2*5 вакуумирует упаковку

Покрытие вакуума важный аспект в поле применения вакуума. Оно основан на технологии вакуума и принимает медицинский осмотр или химические методы для поглощения серии новых технологий как луч электронов, молекулярный луч, луч иона, луч иона, RF и магнитный контроль. Оно предусматривает новый процесс подготовки фильма для научного исследования и практически продукции. Вкратце, метод испарять или брызгать металл, сплав или смесь в вакууме для того чтобы затвердеть и депозировать на покрытом объекте вызван покрытием вакуума.

Преимущества:
(1) широкий диапазон a материалов фильма и субстрата можно выбрать для того чтобы контролировать толщину фильма и подготавливать функциональные фильмы с различными функциями.
(2) фильм подготовлен под вакуумом. Окружающая среда чиста и не легка для того чтобы загрязнять. Фильм с хорошими плотностью, особой чистотой и фильмом формы можно получить.
(3) фильм имеет хорошую прочность скрепления с субстратом и фильм тверд.
(4) сухое покрытие не производит сбросовые воды и никакое загрязнение окружающей среды.
Технология покрытия вакуума главным образом включает вакуумное испарение, вакуум брызгая, плакировку иона вакуума, низложение луча вакуума, низложение химического пара и так далее. Кроме CVD, другие методы имеют следующие общие характеристики:
(1) все виды покрывая технологий требовать, что специфическая окружающая среда вакуума обеспечила движение молекул пара сформированных в процессе нагревая испарения или брызгать, без столкновения, преграждать и взаимодействия многочисленных молекул газа в атмосфере, исключая вредные воздействия примесей в атмосфере.
(2) различные покрывая технологии требуют, что испаряя источника или цель испаряет материал тонкого фильма в газ. Должный к непрерывному улучшению источника или цели, ряд выбора материалов мембраны значительно был расширен. Металл, сплавы металла, межметаллические смеси, керамика или органические материалы могут испарить все виды металла и диэлектрических фильмов, и могут также испарить различные материалы для того чтобы получить разнослоистые фильмы в то же время.
(3) испарение или распыливать материала тонкого фильма могут сделать более точные измерение и контроль толщины фильма в процессе образования фильма с workpiece, который нужно покрыть для обеспечения единообразия толщины фильма.
(4) через клапан прецизионной установки, состав и массовая часть остаточных газов в покрывая камере можно точно контролировать, для предотвращения оксидации испаряясь вещества, для уменьшения массовой части кислорода к самой низкой степени, и также для того чтобы заполнить инертный газ, который невозможен для влажного покрытия.
(5) должный к непрерывному улучшению крася оборудования, покрывая процесс можно уносить непрерывно, таким образом значительно улучшающ выход продукта и загрязняющ окружающую среду в производственном процессе.
(6) из-за состояния вакуума мембраны, мембрана не имеет особую чистоту, хорошую сжатость, и никакую потребность для обработки на поверхности. Это делает механическое и химические свойства главного начальника мембраны к этому из гальванизировать фильма и химического фильма.